Nikon Metrología Microscopio E200 POL
 
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Eclipse LV-DAF: el microscopio vertical perfecto con una solución de sistema de enfoque automático para microscopios Eclipse LV y aplicaciones OEM.

microscopios industriales de metrología nikon vertical Eclipse LV DAFEl LV-DAF ofrece un enfoque automático rápido y versátil con el sistema de enfoque automático híbrido, aprovechando al máximo dos tipos de sistemas de enfoque automático. Combinando proyección de hendidura y enfoque automático de detección de contraste, presenta un amplio rango de enfoque y capacidad de seguimiento rápido. Se admiten una variedad de métodos de observación, incluidos campo claro, campo oscuro y contraste de interferencia diferencial (DIC), así como varias muestras transparentes.

 

Aplicaciones

 

  • Antenas

  • Telecomunicaciones y electrónica

  • Óptica telescópica

  • Teléfonos móviles, afeitadoras y relojes

 

Beneficiós y Características

 

Enfoque automático híbrido

 

Hay dos tipos comunes de sistemas de enfoque automático para microscopios: proyección de rendija y detección de contraste.

 

El sistema de proyección de hendidura proyecta una imagen de hendidura y luego detecta el cambio en la luz reflejada. Este sistema es útil cuando se necesita un rango focal grande.

El sistema de detección de contraste proyecta un patrón de rendija y luego detecta el contraste de la luz reflejada. Este sistema es útil cuando se necesita precisión de enfoque. Esto es posible porque este sistema de enfoque automático se ve menos afectado por la variación de la superficie de la muestra.

 

El enfoque automático híbrido combina las ventajas de ambos sistemas y aprovecha al máximo su potencial emparejado.

 

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Diseño

El controlador presenta el mismo diseño de hardware que el LV-ECON y tiene un tamaño compacto que permite apilarlos entre sí y usarlos en cualquier lugar.

 

 


Compatibilidad con microscopios de la serie LV

El LV-DAF se puede combinar con otros productos de la serie LV. Cuando se combina con LV-ECON, permite la observación en las condiciones óptimas para cada muestra en particular.

Kit de desarrollo de software

 

Nikon proporciona un kit de desarrollo de software (SDK) para integrar LV-DAF en una variedad de sistemas. (La compatibilidad solo está garantizada para los productos Nikon).

 


Control

 

El LV-DAF se puede controlar desde una PC o un sistema de cámara digital DS-L2 para microscopios a través de USB o RS232C.

Programa de ajuste automático

 

El programa de ajuste automático, incluido de serie, permite una configuración del sistema rápida y sencilla. El programa realiza un autoajuste inmediato después de que el usuario enfoca el sistema y presiona el botón para iniciar la configuración. También es posible configurar / registrar automáticamente los parámetros óptimos para cada tipo de muestra y recuperarlos de acuerdo con la muestra que se está fotografiando.

 


 Fuente de luz LED

 

El LV-DAF utiliza un LED brillante para la fuente de luz de enfoque automático. Y dado que también ajusta automáticamente el volumen de luz de enfoque automático para la muestra, puede admitir muestras que varían de baja a alta reflectividad.

Múltiples métodos de observación

 

Se admite una amplia gama de métodos de observación, incluidos campo claro, campo oscuro y DIC. También se admiten muestras reflectantes y transparentes.

 

El filtro azul tipo luz diurna asegura la reproducción del color correcta requerida para la evaluación de la muestra, mientras que el filtro GIF se utiliza para mediciones de retardo y ajuste de contraste.


 Gran rango focal

 

El rango focal es notablemente mayor que con la detección de contraste sola. Esto significa que las muestras con distorsiones en su superficie, como un sustrato de cristal líquido, se pueden rastrear rápidamente, lo que permite un enfoque rápido.

 

 


Especificaciones

Sistema de detección: Sistema híbrido combinando el enfoque de detcción de contraste y proyección de ranura
Fuente de luz auto foco: LED cercano al IR (lambda = 770nm)
Tubo intermedio:

Lente Bertrand enfocable incorporado se puede sacar del camino óptico; Observaciones cambio entre Conoscópicas/Ortoscópicas; Analizador incorporado; Placa/ranura para compensador

Objetivos:

Lente objetivo CFI60 2.5x-100x (incluye distancia de trabajo extra larga (ELWD), distancia de trabajo súper larga (SLWD) y CR para inspección de sustrato LCD)

Modos auto foco: Continuo, búsqueda (sencillo o continuo)
Rango de enfoque: Rango focal sin búsqueda (campo claro) ²
2.5x: 5.5 mm o más, 5x: 4.5 mm o más, 10x: 1.3 mm o más, 20x: 320 μm o más, 50x: 50 μm o más, 100x: 10 μm o más
Tiempo de enfoque: 0.7s o menos (20x: 200µm sin búsqueda)2 3
Precisión Focal (repetición reproducible): la mitad o menos de la profunidad de enfoque2 3
Offset AF: Permite la observación con ajuste preciso de la posición focal mientras aplica el auto enfoque
Resolución minima controlador: 0.05µm1
Comunicación externa: RS232C, USB y Paralelo E/S
Fuente de energía: 100-240V AC, 1.0A 50/60Hz
¹ Algunas limitaciones para 2.5xy 100x.
² Utilizando la muestra de deposición de vapor Cr estándar de Nikon.
³ Uso de LV-IMA o LV-FMA

Compensador: placa de tinte y onda 1/4 estándar: se puede insertar una cuña de cuarzo o un compensador Senarmont en la ranura intermedia

    Caso de Estudio  
    caso estudio  
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