Medición del eje Z | Medición del eje Z
PALABRAS CLAVE: foco, profundidad de foco, confocal, medición sin contacto, visión/vídeo medición, imagen 3-D
DEFINICIÓN:
Medición hacia abajo (perpendicular a la horizontal) en una muestra.
TECNOLOGÍA:
La medición del eje Z brinda a los operadores la oportunidad de obtener entendimiento 3-D de la muestra. Esto se puede obtener por medición sin contacto (generalmente para piezas grandes con orificios, fisuras, mellas, etc.) y también con técnicas sin contacto óptico/láser. Los métodos ópticos basados en microscopios son particularmente útiles para mediciones de escalas pequeñas o para muestras sensibles al tacto por ejemplo la manufactura de obleas (WAFERS) para chips. Ya que los objetivos del microscopio se enfocan a un plano a una distancia conocida desde el objetivo, el nivel de foco en si mismo puede ser usado como una herramienta de metrología. El enfoque preciso, y por lo tanto una metrología más precisa, se ayuda por tecnologías de auto enfoque láser/motorizadas. La imagen confocal, una técnica ampliamente usada en ambientes biológicos, también se puede aplicar a la metrología industrial. Esta brinda precisión en micrones y submicrones para aplicaciones de metrología. Ofreciendo varias ventajas sobre la microscopia óptica convencional, la imagen confocal brinda una profundidad de campo controlable, la eliminación de información fuera de foco, y la habilidad de colectar secciones ópticas seriales desde las muestras. Con el programa apropiado, estas imágenes seriales se pueden reconstruir para brindar una representación 3-D del área capturada.
APLICACIONES:
La medición del eje Z es útil en control de calidad, ingeniería inversa y ambientes de investigación. La imagen confocal, en particular, es ideal para mediciones micro-dimensionales de muestras 2D y 3D de alta precisión. Los ejemplos incluyen alturas de topes en paquetes IC avanzados, MEMS, tarjetas de prueba, micro lentes, lentes de contacto, foto espaciadores para panel FPD, moldes y otros.
CONFIGURACIÓN DEL MICROSCOPIO:
Nikon brinda varias soluciones para mediciones del eje Z:
Las series de microscopios de medición MM400 y MM800. Bases modelo LM para estos microscopios que incorporan un mecanismo de movimiento vertical con una velocidad de 10mm/s. El control arriba/abajo se brinda con precisión usando un controlador dedicado. Además un nuevo desarrollo de un prisma-divisor para Ayuda de Enfoque (FA), permite el enfoque preciso durante mediciones del eje Z para reducir el error resultante de diferencias de profundidad de foco de objetivos diferentes.
El programa NIS-Elements, para usarse en un amplio rango de microscopios incluyendo las series MM400 y MM8000, brinda control motorizado en Z y soporta dos métodos de captura del eje Z: posicionamiento “absoluto” y “relativo”
Sistemas de medición por visión:
El NEXIV VMA-2520 ha sido diseñado específicamente para muestras tridimensionales. Este brinda un viaje largo del eje Z de 200mm y una distancia de trabajo de 73.5mm, habilitando una fácil medición del eje Z. Este sistema tiene capacidad multisensor (listo para pruebas de tacto) para ofrecer mayor flexibilidad en la medición del eje Z.
El confocal Nikon NEXIV VMR-K3040ZC se dirige a las necesidades de metrología de paquetes complejos IC. La cabeza del confocal soporta capacidades para medir a nivel de micrones, y ha sido optimizado para medición de semiconductores estresando una baja distorsión para optimizar todo el campo de observación.
SISTEMA RECOMENDADO:
Por favor consulte a su representante local Nikon para consejos relacionados con sus necesidades específicas.
